国产光刻机突破在即(中国5纳米光刻机突破)

近年来国内在半导体设备方面的进步也是飞快的，比如说中微半导体早已经实现国产5nm的蚀刻机，拓荆聚焦薄膜沉积设备等等都是如此，当各个造芯所需要的设备逐渐攻破的时候，大家又一次将目光放在了光刻机身上，毕竟这才是重中之重，然而目前已知的还是上海微电子90nm的设备，可别人已经是3nm工艺了，所以说这之间的距离也是不言而喻！

不过也不必灰心，早在2006年的时候国内就已经开始启动相关计划，关于光刻机更是有02专项之称，且这个合作也是国内众多部门合作的，比如说中科院负责EUV极紫外光源、清华负责光刻机双工件台系统等等，且近来也一直传来不错的消息，正当大家都以为国产光刻机就要落地的时候，这个行业的翘楚ASML开始坐不住了！

ASML出手，几个意思？

如果说美修改规则除了美企比较积极申请供货之外还有谁，那ASML必不可少。

从刚开始小声说，一直到总裁在一些公开场合中表达这个决定的不满，甚至还说如果再这样下去，中企早晚是实现突破，那个时候将会对一些企业造成重大影响！

但是如今来看，这个呼吁显然是没有被采纳。

而ASML也不是“吃素的”，近来传来2个动作总是耐人寻味。

其中一个就是在国内疯狂再招聘200余人，其中有一个就是负责关于出口的问题，我们也知道，现在ASML想要出口EUV光刻机难度很大，但是DUV光刻机还是可以的。

这一波招聘，或许是更好的表示，比较看重国内市场。

然而招人还不算是什么，更为重要的是，有相关统计显示，今年第一季度，ASML就已经向国内出口了23台光刻机！

什么概念呢？此前几十年里ASML一共向我们出口了大概50台光刻机，但是今年仅仅4个月就出口了23台！

ASML为何如此疯狂的输出呢？

首先来说，就是国内的市场。前面已经提到，多次的呼吁就是不想放弃国内市场，且如今的很多中企开始疯狂的投入半导体市场，比如设计公司多了，需求公司多了，那制造环节必然是加重，于是光刻机的设备需求也自然上升，这个时候ASML不多出口几台设备，那就不是一个合格的商人。

其次就是担心，担心国内的设备实现突破。如前面所提到的那样，国内在蚀刻、清洗、离子注入等半导体设备方面都实现了不小的进步，光刻机此前也是由多个部门合作攻克，如今也传来28nm制程的设备即将落地，那作为这个行业里的扛把子再不降价销售，今后的市场或许就是一个谜！

在你没有的时候，要么就是不卖给你，要么就是拉高门槛，在你即将实现突破的时候，降价销售，抢占市场，这一波操作也是定格啊！

那么就有人说了，这不是在出难题吗？一方面是我们自己的即将下地，但是性能、良品率还不知道，一方面是已经降低且知道性价比的产品，到底该选什么呢？

选什么那是企业的事情了，但是我们也应该知道，如果我们辛苦研究出来的产品，最后得不到市场的支持，那不是心酸的事情了，而是后面再推进项目，也少了动力不是？

管ASML闹什么“幺蛾子”，我们做好自己才是最关键！诱惑，那终究是诱惑啊！