国产光刻机可以达到多少纳米(国产光刻机最新进展)

光刻机是生产制造芯片的必要设备，美一直都在限制ASML出货先进的EUV光刻机，由于光刻机过于复杂，ASML曾表示，给中国图纸其也不能复制出来。

因为ASML的光刻机融合了全球超40个国家的尖端技术，供应商更是超过了数百家。

但实际情况并非ASML所说的那么难，全球四大光刻机厂商中，上海微电子就是其中之一，而其研发制造的后道封装光刻机，占领了全球四成的市场。

去年末，上海方面对外宣布，国产90nm光刻机取得突破；上海微电子28nm精度的光刻机取得技术验证。

专业人士表示，在多次曝光工艺下，90nm光刻机可将芯片制程缩小至7nm，而ASML DUV光刻机的精度为38nm,多次曝光后，可将芯片制程缩小至7nm。

上海微电子宣布国产光刻机取得突破的消息后，ASML突然出现了一个奇怪的现象，那就是坚持向国内出货，不听美劝。

例如，美出台政策限制相关芯片企业出货，但ASML表示该政策对光刻机出货的影响是有限的，因为ASML光刻机中使用美元器件的数量是有限的。

随后美又对ASML进行游说，希望其收紧国际主流光刻机的出货范围，结果直接被ASML给拒绝了。

无奈的美，其联合日荷签订了三方协议，通过荷兰限制ASML出货先进光刻机。

结果ASML不仅率先透露的三方协议达成的消息，还表示立法落地需要时间，预计6月份可能开始，这无疑是提醒厂商下单。

另外，ASML还通过官网表示，三方协议限制了2000i及后续型号的DUV光刻机，1980Di型号的DUV光刻机将会持续出货，其在多重曝光工艺下，可将芯片制程缩小至7nm。

ASML总裁在参加中国高层发展论坛时强调，如果不是瓦森纳协定，中国将会成为EUV光刻机最大的市场。

也就是说，ASML不再夸下海口说中国造不出先进的光刻机，而是坚持向国内出货。

ASML之所以态度大变，就是国内光刻机突破速度超出预期，ASML担忧彻底失去国内市场。

要知道，国内市场是全球最大的芯片消费市场，每年进口芯片总额超过4000亿美元，芯片规则修改，更多芯片开始在国内制造，目标是七成芯片在国内生产。

巨大的芯片生产需求，自然就需要更多的光刻机，ASML不坚持出货，就会失去大量的市场。

另外，国内光刻机等技术进步很快，90nm已经取得突破，28nm精度的光刻机也得到技术验证，华为、西工大等还全力突破更先进的光源技术。

这意味着ASML在国内的必然会一步步被蚕食。

更何况，硅芯片已经将近极限，越来越多的厂商都在研发量子芯片、光电芯片等，荷兰也投资11亿欧元研发光电芯片技术。

但光电芯片和量子芯片技术，国内目前都有领先优势，还能够绕开ASML的光刻机。

总结一下就是，国内光刻机突破速度很快，量子芯片和光电芯片时代又在到来，ASML为了市场份额，不得不坚持出货。