国产28nm的光刻机最新现状(中国首台光刻机哪一年产的)

目前搞光刻机的国家和企业不少，荷兰的ASML当然是一枝独秀，基本垄断了目前高端光刻机的市场，基本上40nm以下的制程，厂商都愿意采用ASML的光刻机。日本的佳能、尼康在光刻机产品上也算做得不错，尼康甚至能生产号称最大支持7nm制程的EUV光刻机。当然国内的厂商至少在我们认知中也在努力，比如上海微电也在研发支持28nm制程的光刻机。

不过荷兰ASML的地位显然短期内是无法动摇的。ASML正抓紧研发下一代高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）光刻机。之前AMSL透露，其存量EUV客户均订购了新一代装置，也就是之前购买ASML EUV光刻机的芯片制造厂商，都已经在ASML下一代光刻机上下了订单，除了我们已知的Intel和台积电，包括三星、海力士、美光等厂商也都已经购买了ASML下一代光刻机，只是按照顺序等ASML生产装配后发货。

虽然因为经济形势导致整个半导体的行情不是太好，但是这些有能力生产芯片的厂商还是知道，至少在光刻机上的钱不能省，购买ASML下一代高端光刻机，这是让自己保持技术优势的前提。目前普通EUV能生产3nm工艺的芯片，未来想要进一步突破物理墙，就要靠ASML的下一代高端光刻机了。

这其中第一台high-NA-EUV光刻机是被Intel所购买，据悉会在2024年部署，2025年开始量产芯片，所以Intel也对自己的等同于1.8nm的芯片工艺信心满满。而台积电将于2024年引进下一代光刻机，估计也会在2nm及以下的工艺制程上。三星集团则表示要购买10台下一代光刻机，预备未来扩充记忆体、晶圆代工的产能可以扩大。

根据一些信息透露，目前UEV光刻机的单台售价已经接近2亿美元，而下一代光刻机的单台售价更是达到了4亿美元，折合人民币大概27亿元。很显然在未来很长一段时间中，ASML将继续在光刻机领域维持自己的优势。尽管欧洲、日本一些厂商都表示要研发自己的2nm芯片工艺，但大概率也是购买ASML的设备才行。

至于大家关心的国产光刻机，可生产90nm制程的光刻机其实很早就已经研发出来，并号称通过了验收，但实际上我们之前了解的情况是只有一家厂商购买了这种光刻机，而且也不是用于生产，更像是面子工程。这种光刻机据悉是倒推ASML之前老技术的光刻机而来，说是国产但是大多数零部件也是从国外采购，而且由于技术原因，无论是良率和产能，都可以忽略不计，完全无法商用。

之前也有消息说上海微电自己研发的可支持28nm制程的光刻机，已经算是成功，这给了不少国人信心。但遗憾的是，据悉这种国产28nm的光刻机甚至无法通过检验，目前不说商用，能否达到正常使用都还是两说。有小道消息表示，华为挖走了上海微电不少工程师，这个说法肯定是没有官方回应的。但可以肯定的是，目前所谓的国产光刻机，是无法销售给芯片制造厂商使用的，国内的芯片代工厂商未来只能继续依赖海外的设备。

尽管我们一直表示要发展国内的芯片产业，但说实话这部分差距的确非常大，技术能力和制造能力和海外整个产业链相比，绝非一朝一夕可赶上，只能慢慢努力，而且还要考虑海外在技术发展上的速度，甚至连先进一些的国产芯片都还得靠海外的EDA设计软件才能实现。最后我们只能表示抛开幻想脚踏实地吧，凭借喊口号是没法弥补巨大的差距的！