国产28nm的光刻机最新现状(中国首台光刻机哪一年产的)

目前搞光刻机的国家和企业不少,荷兰的ASML当然是一枝独秀,基本垄断了目前高端光刻机的市场,基本上40nm以下的制程,厂商都愿意采用ASML的光刻机。日本的佳能、尼康在光刻机产品上也算做得不错,尼康甚至能生产号称最大支持7nm制程的EUV光刻机。当然国内的厂商至少在我们认知中也在努力,比如上海微电也在研发支持28nm制程的光刻机。

不过荷兰ASML的地位显然短期内是无法动摇的。ASML正抓紧研发下一代高数值孔径极紫外光(high-NA EUV)光刻机。之前AMSL透露,其存量EUV客户均订购了新一代装置,也就是之前购买ASML EUV光刻机的芯片制造厂商,都已经在ASML下一代光刻机上下了订单,除了我们已知的Intel和台积电,包括三星、海力士、美光等厂商也都已经购买了ASML下一代光刻机,只是按照顺序等ASML生产装配后发货。

虽然因为经济形势导致整个半导体的行情不是太好,但是这些有能力生产芯片的厂商还是知道,至少在光刻机上的钱不能省,购买ASML下一代高端光刻机,这是让自己保持技术优势的前提。目前普通EUV能生产3nm工艺的芯片,未来想要进一步突破物理墙,就要靠ASML的下一代高端光刻机了。

这其中第一台high-NA-EUV光刻机是被Intel所购买,据悉会在2024年部署,2025年开始量产芯片,所以Intel也对自己的等同于1.8nm的芯片工艺信心满满。而台积电将于2024年引进下一代光刻机,估计也会在2nm及以下的工艺制程上。三星集团则表示要购买10台下一代光刻机,预备未来扩充记忆体、晶圆代工的产能可以扩大。

根据一些信息透露,目前UEV光刻机的单台售价已经接近2亿美元,而下一代光刻机的单台售价更是达到了4亿美元,折合人民币大概27亿元。很显然在未来很长一段时间中,ASML将继续在光刻机领域维持自己的优势。尽管欧洲、日本一些厂商都表示要研发自己的2nm芯片工艺,但大概率也是购买ASML的设备才行。

至于大家关心的国产光刻机,可生产90nm制程的光刻机其实很早就已经研发出来,并号称通过了验收,但实际上我们之前了解的情况是只有一家厂商购买了这种光刻机,而且也不是用于生产,更像是面子工程。这种光刻机据悉是倒推ASML之前老技术的光刻机而来,说是国产但是大多数零部件也是从国外采购,而且由于技术原因,无论是良率和产能,都可以忽略不计,完全无法商用。

之前也有消息说上海微电自己研发的可支持28nm制程的光刻机,已经算是成功,这给了不少国人信心。但遗憾的是,据悉这种国产28nm的光刻机甚至无法通过检验,目前不说商用,能否达到正常使用都还是两说。有小道消息表示,华为挖走了上海微电不少工程师,这个说法肯定是没有官方回应的。但可以肯定的是,目前所谓的国产光刻机,是无法销售给芯片制造厂商使用的,国内的芯片代工厂商未来只能继续依赖海外的设备。

尽管我们一直表示要发展国内的芯片产业,但说实话这部分差距的确非常大,技术能力和制造能力和海外整个产业链相比,绝非一朝一夕可赶上,只能慢慢努力,而且还要考虑海外在技术发展上的速度,甚至连先进一些的国产芯片都还得靠海外的EDA设计软件才能实现。最后我们只能表示抛开幻想脚踏实地吧,凭借喊口号是没法弥补巨大的差距的!

发布于 2023-04-25 13:19:56
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